บิ๊กเทคจีนผนึกกำลังยกระดับยุทธศาสตร์ชาติ เร่งสร้าง ‘ASML เวอร์ชันจีน’ สู้ศึกคว่ำบาตรสหรัฐฯ - ชาติตะวันตก

7-3-2026

  SCMP รายงานว่า ผู้บริหารระดับสูงในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของประเทศจีน (China) ได้ออกมาเรียกร้องให้มีการขับเคลื่อนในระดับชาติเพื่อสร้างทางเลือกภายในประเทศทดแทน ASML ยักษ์ใหญ่ด้านอุปกรณ์ผลิตชิปจากเนเธอร์แลนด์ (Netherlands) พร้อมกระตุ้นให้อุตสาหกรรม "ละทิ้งความเพ้อฝันและเตรียมพร้อมสำหรับการต่อสู้" ท่ามกลางมาตรการคว่ำบาตรจากสหรัฐฯ (US)

  บทความที่เขียนร่วมกันโดยผู้ร่วมก่อตั้ง Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) พร้อมด้วยผู้นำจาก Empyrean, Yangtze Memory Technologies (YMTC), Naura Technology และเหล่านักวิชาการ ระบุว่าอุตสาหกรรมในปัจจุบันมีลักษณะที่ "เล็ก กระจัดกระจาย และอ่อนแอ" มากเกินไป ซึ่งส่งผลให้เกิดการ "สูญเสียทรัพยากรสาธารณะไปอย่างมหาศาล"

  สำหรับบริษัทที่ร่วมแสดงทัศนะในครั้งนี้ประกอบด้วย SMIC ซึ่งเป็นโรงหล่อชิปชั้นนำของประเทศ, Empyrean ผู้พัฒนาซอฟต์แวร์ออกแบบวงจรรวม (IC) ระดับแนวหน้า, YMTC ยักษ์ใหญ่ด้านหน่วยความจำ และ Naura ผู้ผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์อันดับหนึ่งของจีน

  บทความระบุว่า สหรัฐฯ ได้พยายามสกัดกั้นการก้าวขึ้นมาของจีนใน 3 ด้านหลัก ได้แก่ ระบบอัตโนมัติเพื่อการออกแบบทางอิเล็กทรอนิกส์ (EDA) ที่ใช้สำหรับการออกแบบชิป, แผ่นเวเฟอร์ซิลิกอน (Silicon Wafers) ซึ่งเป็นวัสดุหลักในการผลิตชิป และอุปกรณ์การผลิต โดยเฉพาะเทคโนโลยีภาพพิมพ์หินด้วยรังสีอัลตราไวโอเลตไกล (EUV Lithography) ซึ่งถูกผูกขาดโดย ASML ทั้งนี้ ASML ถูกสั่งห้ามส่งออกเครื่อง EUV ไปยังประเทศจีนตามมาตรการที่ประกาศออกไป

  หวัง หยางหยวน (Wang Yangyuan) ผู้ร่วมก่อตั้ง SMIC, หลิว เว่ยผิง (Liu Weiping) ประธาน Empyrean, เฉิน หนานเสียง (Chen Nanxiang) ประธาน YMTC และ จ้าว จินหรง (Zhao Jinrong) ประธาน Naura พร้อมด้วยศาสตราจารย์จากมหาวิทยาลัยชิงหัว (Tsinghua University) และมหาวิทยาลัยปักกิ่ง (Peking University) ระบุในบทความว่า "เครื่อง EUV ของ ASML หนึ่งเครื่องประกอบด้วยชิ้นส่วนมากกว่า 100,000 ชิ้นที่จัดหาจากซัพพลายเออร์ 5,000 ราย โดยที่ ASML ทำหน้าที่เป็นเพียงผู้รวมระบบ (Integrator) เท่านั้น"

  บทความดังกล่าวภายใต้หัวข้อ "การสร้างระบบอุตสาหกรรมวงจรรวมที่เป็นอิสระและควบคุมได้" ได้ตีพิมพ์ในวารสาร Science and Technology Review ฉบับเดือนกุมภาพันธ์ และเผยแพร่ผ่านช่องทางออนไลน์เมื่อวันพุธที่ผ่านมา โดยอธิบายว่าเทคโนโลยี EUV ใช้สำหรับพิมพ์ลวดลายระดับนาโนลงบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิกอนเพื่อผลิตชิปล้ำสมัย ซึ่งจีนยังคงถูกปิดกั้นการเข้าถึงเครื่องจักรเหล่านี้

  แม้บทความจะตั้งข้อสังเกตว่าจีนมีการทำ "Breakthrough" หรือการค้นพบที่สำคัญในระบบเลเซอร์ EUV, แพลตฟอร์มแบบสองจังหวะ (Dual-stage platform) และระบบออปติก แต่การนำเทคโนโลยีเหล่านี้มารวมกันภายใต้ความพยายามระดับชาติถือเป็นโจทย์ใหญ่ที่ต้องได้รับการแก้ไขในช่วงแผนพัฒนาเศรษฐกิจและสังคมแห่งชาติฉบับที่ 15 (ปี 2026-2030)

  นอกจากนี้ การสร้าง "ASML ของจีน" จำเป็นต้องอาศัยความร่วมมือที่เป็นหนึ่งเดียวในระดับชาติ ซึ่งหมายถึงการรวมศูนย์ทรัพยากรทั้งด้านการเงินและบุคลากร โดยเน้นย้ำว่าภารกิจนี้มีความเร่งด่วนและหน่วยงานที่เกี่ยวข้องควรเริ่มทำแผนงานในทันที ขณะที่ความพยายามในด้าน EDA และแผ่นเวเฟอร์ซิลิกอนก็ต้องได้รับการประสานงานและชี้แนะในระดับชาติ เพื่อสร้างกลไกใหม่ที่ได้ประโยชน์ร่วมกันผ่านความร่วมมือระหว่างองค์กร

  บทความยังชี้ให้เห็นถึงความกระจัดกระจายของอุตสาหกรรมชิปในจีน ซึ่งมีผู้เล่นรายย่อยมากเกินไป โดยมีผู้พัฒนา EDA กว่า 100 ราย, นักออกแบบชิป 3,600 ราย และบริษัทที่เน้นอุปกรณ์การผลิตเวเฟอร์มากกว่า 180 แห่ง ซึ่งในระบบเศรษฐกิจแบบตลาด การผลักดันให้เกิดการควบรวมกิจการ (M&A) โดยการบังคับนั้นทำได้ยาก

  การเรียกร้องจากเหล่าผู้ทรงอิทธิพลทางเทคโนโลยีและนักวิชาการในครั้งนี้เกิดขึ้นก่อนการประชุม "สองสภา" (Two Sessions) ประจำปีของจีน โดยเมื่อวันพฤหัสบดีที่ผ่านมา นายกรัฐมนตรี หลี่ เฉียง (Li Qiang) กล่าวว่าหนึ่งในเป้าหมายของรัฐบาลในปีนี้คือการจัดตั้ง "ช่องทางสีเขียว" (Green Channel) สำหรับการควบรวมกิจการของบริษัทในกลุ่มเทคโนโลยีหลัก

  มีรายงานว่าจีนกำลังพัฒนาเครื่อง EUV ในเมืองเซินเจิ้น (Shenzhen) มณฑลกวางตุ้ง (Guangdong) โดยใช้การวิศวกรรมย้อนรอย (Reverse-engineering) จากเครื่องรุ่นเก่าของ ASML ซึ่งตามรายงานของสำนักข่าวรอยเตอร์ (Reuters) เมื่อเดือนธันวาคมระบุว่า เครื่องต้นแบบได้สร้างเสร็จสมบูรณ์ในปีที่ผ่านมา แต่ยังไม่สามารถผลิตชิปที่ใช้งานได้จริง

  อย่างไรก็ตาม บริษัทจีนมีความก้าวหน้าในชิ้นส่วนและเทคโนโลยีเฉพาะของ EUV บางรายการ เช่น บริษัท Glory Photonix ในซูโจว (Suzhou) อ้างว่าเป็นซัพพลายเออร์ในประเทศรายเดียวที่ผลิตเลเซอร์พลังงานสูงได้ ขณะที่ Beijing U-Precision Tech ประสบความสำเร็จในการผลิตทางเลือกสำหรับระบบ Twinscan ของ ASML ซึ่งเป็นแพลตฟอร์มแบบสองจังหวะที่ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการผลิตให้สูงขึ้น

---

IMCT NEWS

ที่มา https://www.scmp.com/tech/article/3345557/top-chip-leaders-urge-national-drive-build-chinas-asml-amid-us-curbs?module=China%20Future%20Tech&pgtype=section